GOBIERNO Y UPM SE PONEN A PUNTO EN ACUERDO DE INVERSIÓN.

En la jornada de este martes el gobierno y UPM analizaron inversiones, actualización tecnológica y el aumento de la producción, solicitado por la empresa, estuvo sobre la mesa durante una visita de autoridades del Gobierno a la planta industrial de Fray Bentos en una instancia en la que se abordaron el seguimiento de los acuerdos de inversión, los controles ambientales y los planes de actualización tecnológica.

De la recorrida participaron el secretario de Presidencia de la República, Alejandro Sánchez; el ministro de Ambiente, Edgardo Ortuño; el director nacional de Medio Ambiente, Alejandro Nario; la subsecretaria de Relaciones Exteriores, Valeria Csukasi, y el intendente de Río Negro, Guillermo Levratto.

Durante la visita, las autoridades se interiorizaron sobre las instalaciones y el estado de los compromisos asumidos por la empresa. El seguimiento incluye aspectos vinculados al funcionamiento del Ferrocarril Central y a los fondos destinados al desarrollo del conocimiento y la investigación científica.

Otro de los puntos abordados confirmó Sánchez fue la continuidad de las inspecciones y los controles ambientales, que están a cargo de los organismos competentes, entre ellos el Ministerio de Ambiente.

En cuanto a la modernización de las instalaciones, desde Sánchez señaló que las plantas industriales requieren actualizaciones tecnológicas con el paso del tiempo para mejorar su eficiencia y optimizar el uso de los recursos.

En tal sentido indicó que estos procesos deben mantenerse dentro de los límites ambientales autorizados y que las mejoras tecnológicas no implican modificaciones contractuales ni requieren nuevas autorizaciones, siempre que no se alteren las condiciones aprobadas ni aumenten las cargas contaminantes autorizadas.

La visita se enmarca en la agenda de coordinación y seguimiento que el Estado mantiene con UPM, tanto en relación con los compromisos de inversión como con la operativa industrial y el cumplimiento de la normativa vigente.